Beam position measuring apparatus and method thereof

빔의 위치 측정 장치 및 방법

Abstract

PURPOSE: A beam location measuring apparatus using a beam extension device, and a method thereof are provided to maintain intervals among each beam for increasing the number of beams to be measured. CONSTITUTION: A beam location measuring method comprises the following steps: passing a beam generated from a beam generator through a beam extension device for radiating the beam with the extended area to a bean measuring sensor(200,202); measuring the intensity of the beam radiated to each pixel of the bean measuring sensor(204); and calculating the central location of the beam(206). A beam location measuring apparatus includes the beam generator, the bean measuring sensor, and the beam extension device.
빔 검출 센서에 조사되는 빔의 면적을 넓히는 빔확장장치를 이용하여 빔의 위치를 측정하는 장치 및 방법을 개시한다. 이를 위해 빔 발생기와 빔 검출 센서 사이에 빔 검출 센서에 조사되는 빔의 면적을 넓히는 빔확장장치를 설치함을 특징으로 한다. 빔 검출 센서의 각 픽셀에 조사되는 빔의 세기를 이용하여 조사되는 빔의 중심 위치를 검출한다.

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